一、哈美頓 Hamilton 液體處理工作站搭建前前期準(zhǔn)備
 

　　1. 實(shí)驗(yàn)方案梳理
 

　　明確實(shí)驗(yàn)流程：樣本分裝、試劑分配、梯度稀釋、萃取純化、PCR 體系配制、NGS 建庫等步驟；記錄每種液體體積、耗材類型(深孔板、PCR 板、試劑槽、離心管架)、移液精度要求、液面探測模式、洗針流程。
 

　　2. 工作臺面布局規(guī)劃
 

　　在工作站軟件界面打開工作臺地圖，匹配實(shí)際放置模塊：載架、恒溫模塊、磁珠分離模塊、洗站、廢液槽、吸頭倉；
 

　　固定耗材擺放坐標(biāo)，避免程序運(yùn)行時機(jī)械臂碰撞；
 

　　區(qū)分消耗區(qū)(吸頭、一次性反應(yīng)板)、試劑區(qū)、樣本區(qū)、廢液清洗區(qū)，預(yù)留機(jī)械運(yùn)動安全間距。
 

　　3. 硬件自檢與參數(shù)預(yù)設(shè)
 

　　開機(jī)執(zhí)行整機(jī)初始化，完成 Z 軸、X/Y 軸原點(diǎn)回零；
 

　　運(yùn)行氣密性檢測、液面感應(yīng)傳感器校準(zhǔn)；
 

　　根據(jù)實(shí)驗(yàn)選擇通道頭(8 通道 / 96 通道 / 單通道)，設(shè)置吸頭類型、最小 / 最大移液量程、液體粘度補(bǔ)償參數(shù)。
 

　　二、程序編輯基礎(chǔ)操作流程
 

　　1. 新建方法工程
 

　　打開控制軟件，點(diǎn)擊新建 Method，命名實(shí)驗(yàn)名稱、錄入實(shí)驗(yàn)人員、日期、版本編號，選擇對應(yīng)機(jī)型通道配置，保存工程文件。
 

　　2. 拖拽式流程模塊編輯
 

　　軟件采用模塊化拖拽編程，核心常用模塊：
 

　　Tip 吸頭操作：拾取吸頭、丟棄吸頭、吸頭預(yù)潤洗；
 

　　液體轉(zhuǎn)移 Liquid Transfer：吸液、分液、反向吸液、梯度稀釋、多板重復(fù)分液；
 

　　清洗模塊 Wash：淺洗、深洗、高壓沖洗、去離子水 / 乙醇洗針；
 

　　溫控模塊 Thermo：孵育升溫、恒溫保持、降溫；
 

　　磁分離 Magnetic：磁珠吸附、上清吸取、重懸吹打；
 

　　板位移動：轉(zhuǎn)運(yùn)微孔板、加蓋、去蓋；
 

　　循環(huán) Loop：批量樣本重復(fù)、多梯度循環(huán)；
 

　　邏輯判斷：液面缺失報警、吸液不足暫停、故障彈窗提示。
 

　　3. 移液核心參數(shù)精細(xì)化設(shè)置(關(guān)鍵步驟)
 

　　吸液 / 分液速度：高粘度緩沖液、甘油、血清降低吸排液速度；水相試劑使用標(biāo)準(zhǔn)速度；
 

　　液面探測 LLD 設(shè)置：
 

　　導(dǎo)電液體(水溶液、緩沖液)開啟電容式液面檢測；
 

　　油相、高絕緣試劑關(guān)閉 LLD 或啟用壓力探測；
 

　　設(shè)置安全下沉高度，防止戳穿管底；
 

　　吸液延時與預(yù)潤洗：微量體系增加吸液等待時間，避免液體掛壁；珍貴試劑執(zhí)行 2～3 次吸頭預(yù)潤洗，消除死體積誤差；
 

　　空氣隔段 Air Gap：轉(zhuǎn)移易揮發(fā)、易交叉污染試劑時設(shè)置空氣隔段，防止液體倒流污染通道。
 

　　4. 循環(huán)批量程序編輯
 

　　大批量樣本處理使用 Loop 循環(huán)功能：
 

　　設(shè)置循環(huán)起始板位、結(jié)束板位、單次處理樣本數(shù)量；
 

　　可嵌套多層循環(huán)：先樣本循環(huán)，再試劑梯度循環(huán)；
 

　　循環(huán)內(nèi)插入自動洗針步驟，消除樣本間交叉污染。
 

　　三、完整實(shí)驗(yàn)方法搭建實(shí)操示例(PCR 體系配制)
 

　　工作臺布置：吸頭倉、樣本 96 孔板、酶混合試劑槽、水試劑槽、PCR 反應(yīng)板、洗針站；
 

　　流程排序：機(jī)械臂拾取新吸頭→LLD 探測樣本液面→吸取樣本→轉(zhuǎn)移至 PCR 板→丟棄吸頭；
 

　　更換吸頭，預(yù)潤洗酶試劑→分裝 Master Mix→超純水補(bǔ)齊體系；
 

　　每板結(jié)束執(zhí)行一次通道深度清洗；
 

　　添加恒溫模塊：4℃短時保存；
 

　　插入結(jié)束彈窗提示，記錄運(yùn)行完成日志。
 

　　四、程序校驗(yàn)與仿真模擬
 

　　離線仿真模擬
 

　　編輯完成后開啟模擬運(yùn)行，無機(jī)械動作，軟件模擬機(jī)械臂運(yùn)動軌跡，檢查是否存在坐標(biāo)越界、板位沖突、吸頭干涉，修正布局與坐標(biāo)參數(shù)。
 

　　空載試運(yùn)行
 

　　不放任何液體與耗材，空跑完整程序，觀察運(yùn)動有無卡頓、碰撞報警，修正運(yùn)動速度、升降高度。
 

　　小體積預(yù)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證
 

　　使用純水替代試劑小批量試跑，收集反應(yīng)板稱量 / 分光檢測，驗(yàn)證移液 CV 精度；若誤差偏大，調(diào)整吸排液速度、空氣隔段、預(yù)潤洗次數(shù)。
 

　　五、程序保存、導(dǎo)出與版本管理
 

　　完成調(diào)試后保存主方法，另存副本用于后續(xù)修改；
 

　　支持導(dǎo)出 PDF 程序報告，包含臺面布局、每一步參數(shù)、移液體積、循環(huán)邏輯，用于實(shí)驗(yàn)室記錄歸檔；
 

　　重要實(shí)驗(yàn)方法設(shè)置密碼鎖定，防止誤修改；迭代修改時標(biāo)注版本變更記錄。
 

　　六、常見程序報錯與參數(shù)優(yōu)化方案
 

　　液面探測無信號：LLD 靈敏度過低，調(diào)高探測閾值，檢查液體導(dǎo)電性能；
 

　　移液精度偏差大：增加預(yù)潤洗、降低吸液速度、增設(shè)空氣隔段；
 

　　機(jī)械臂碰撞：修正板位坐標(biāo)，抬高 Z 軸安全高度，縮小運(yùn)動速度；
 

　　試劑交叉污染：縮短同吸頭連續(xù)使用次數(shù)，增加中間深度洗針流程；
 

　　吸液氣泡過多：延長吸液等待時間，降低下沉深度，避開液面泡沫層。
 

　　七、搭建規(guī)范與注意事項(xiàng)
 

　　高致病性、熒光、放射性樣本程序中增加乙醇、廢液沖洗流程，防止通道殘留污染；
 

　　易揮發(fā)試劑全程設(shè)置空氣隔段，避免腐蝕內(nèi)部閥組；
 

　　長期靜置液體體系，程序中增加吹打混勻模塊，防止溶質(zhì)沉降；
 

　　編輯程序時分步保存，避免軟件閃退導(dǎo)致流程丟失；
 

　　不同實(shí)驗(yàn)專用獨(dú)立方法，不混用參數(shù)，降低交叉干擾風(fēng)險。
 

　　八、程序復(fù)用與快速搭建技巧
 

　　保存標(biāo)準(zhǔn)化子流程模板(如磁珠純化、梯度稀釋模板)，新建實(shí)驗(yàn)直接調(diào)用；
 

　　采用變量參數(shù)設(shè)置，批量修改試劑體積、孵育時間，無需逐行編輯；
 

　　哈美頓 Hamilton 液體處理工作站多通道同步分配試劑，優(yōu)化運(yùn)行節(jié)拍，縮短整體實(shí)驗(yàn)耗時。